氣相沉積爐是時(shí)代發(fā)展進(jìn)步的產(chǎn)物，它是通過(guò)化學(xué)反應(yīng)的方式，利用加熱、等離子激勵(lì)或光輻射等各種能源，在反應(yīng)器內(nèi)使氣態(tài)或蒸汽狀態(tài)的化學(xué)物質(zhì)在氣相或氣固界面上經(jīng)化學(xué)反應(yīng)形成固態(tài)沉積物的技術(shù)。簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)就是：兩種或兩種以上的氣態(tài)原材料導(dǎo)入到一個(gè)反應(yīng)室內(nèi)，然后他們相互之間發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，形成一種新的材料，沉積到基片表面上。CVD和PVD相比，沉積過(guò)程要發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，是一個(gè)氣象化學(xué)生長(zhǎng)的過(guò)程。
目前，本設(shè)備是由沉積室、供氣系統(tǒng)和排氣系統(tǒng)組成，是以電阻加熱或者感應(yīng)加熱的方式，在真空環(huán)境下，通入沉積氣體，并在高溫下產(chǎn)生裂解后沉積到工件上，使復(fù)合材料得到致密化處理的生產(chǎn)設(shè)備。
技術(shù)特點(diǎn)：
2.氣相沉積爐可以通過(guò)各種反應(yīng)形成多種金屬、合金、陶瓷和化合物涂層。
3.在中溫或高溫下，通過(guò)氣態(tài)的初始化合物之間的氣相化學(xué)反應(yīng)而形成固體物質(zhì)沉積在基體上。
4.采用等離子和激光輔助技術(shù)可以顯著地促進(jìn)化學(xué)反應(yīng)，使沉積可在較低的溫度下進(jìn)行。
5.涂層的化學(xué)成分可以隨氣相組成的改變而變化，從而獲得梯度沉積物或者得到混合鍍層。
6.沉積層通常具有柱狀晶體結(jié)構(gòu)，不耐彎曲，但可通過(guò)各種技術(shù)對(duì)化學(xué)反應(yīng)進(jìn)行氣相擾動(dòng)，以改善其結(jié)構(gòu)。
7.繞鍍件好。可在復(fù)雜形狀的基體上以及顆粒材料上鍍膜。適合涂覆各種復(fù)雜形狀的工件。由于它的繞鍍性能好，所以可涂覆帶有槽、溝、孔，甚至是盲孔的工件。
氣相沉積爐的安裝說(shuō)明：
1.安裝時(shí)：沒(méi)什么特殊要求，在室內(nèi)地面或臺(tái)架上，電爐控制器應(yīng)放在工作臺(tái)上，臺(tái)面傾斜度不得超過(guò)5度，控制器離實(shí)驗(yàn)室電爐小距離不得少于0.5米，為了保證控制器的正常運(yùn)轉(zhuǎn)，控制器不宜放在電爐上面。
2.接線(xiàn)時(shí)，首先轉(zhuǎn)松控制器外殼左右兩側(cè)的螺釘，然后將罩殼上翻，接好電源線(xiàn)后，控制器與電爐的連線(xiàn)及熱電偶連接線(xiàn)，將熱電偶從熱電偶固定座的小孔中插入爐膛，孔與熱電之間間隙用石棉繩堵塞，然后固定。
3.檢查完接線(xiàn)后,即可通電，然后打開(kāi)回轉(zhuǎn)爐控制器面板上的開(kāi)關(guān)，調(diào)節(jié)設(shè)定按鈕，把溫度設(shè)定到您所需要的度數(shù)上，如果把設(shè)定開(kāi)關(guān)拔向測(cè)量位置上，紅燈滅，亦有接觸器的吸合聲響，電爐通電，電流表指示加熱電流值，溫度隨爐內(nèi)溫度升高而徐徐上升，說(shuō)明工作正常。
更新更新時(shí)間：2022-07-20
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